西川和見経済産業省商務情報政策局半導体戦略統括調整官

2026年6月19日・第221回国会 衆議院 内閣委員会 第21号(外部サイト、新しいタブで開きます) の 22 番目の発言(外部サイト、新しいタブで開きます)(全 175 発言)

お答え申し上げます。

ASMLについてのお問合せだと承知をしております。

ASMLは、世界中の最先端部品メーカーと有力顧客を束ねて、未成熟だったEUV露光技術を量産機へ育て上げたというふうに認識をしてございます。

その成功要因でございますけれども、imecを中心に、世界中の人材や企業を巻き込んで十分な民間資金を調達する、そうしたことでオープンなイノベーション環境をつくり出す、リスクを取って開発を継続したというところにあると承知してございます。

一方、我が国でございますけれども、二〇〇〇年代初めから、産総研を含む研究機関や企業において、EUV露光装置の開発に取り組みました。国際連携の視点や継続した研究開発費の確保が不十分で、残念ながら実現に至らなかったというふうに認識してございます。

こうした反省を踏まえて、海外のトップ半導体メーカー、研究機関と連携した開発支援を現在は行ってございます。産総研では、北海道千歳市において、最先端のEUV装置を導入した最先端半導体に関するオープンな研究開発拠点として整備を進めてございます。

以上でございます。

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